的耐心活，缩短光的波长就成了提升光刻机精度最为直接也最为优先的手段。
早期光刻机土鳖的很，基本都是从电影摄像机上改造出来的，曝光光源也比较奇葩从光谱红外端到近紫外段用啥的都有，
不过随着摩尔定律的生效，光源迅速从红外端向紫外端移动，镜头也迅速超越了电影镜头所要求的精度，越来越专业加工越来越难。
时间到了八十年代，光刻机的主流光源开始使用高压汞灯，其波长为365n产业界管这玩意叫～ i-le。
九十年代初期，光刻机的精度进入到10微米以下之后，高压汞灯所提供的356n波长就显得很大了，因此krf 激光器成了光刻机的主流光源，其产生的248 n波长的光源足够把晶圆生产线的线宽推进到纳米时代。
九十年代中期，随着晶圆生产线线宽的进一步降低，193n波长的 duv 激光开始崭露头角，duv激光也是著名的arf准分子激光，包括治疗近视眼手术在内的多种跨行业工程应用都使用这种激光，相关激光发生器和光学镜片等技术都比较成熟。
在电子产业庆幸193n光源由于应用范围极广导致研发成本降低的愉悦压根就没享受几天，光刻光源的缩短之旅直接被卡在193n无法进步。
从九十年代中期开始，直到梁远偷渡之前，光刻机的光源一直维持在193n已经接近二十年，可以说直到某人偷渡位面那一刻，全球所有主流手机、电脑、平板、超级计算机、显卡、路由器的主芯片仍旧是193n光源光刻出来的，193n光源成了人类信息时代超高速发展中第一块顽固不
第266章 制程路线之争 （上）(2/6)