去。
昨晚刘飞扬和聂晓天应酬完方伟林一行人，两人结伴回家时还笑言港基集电有吉祥物属性的大少，193纳米光源壁垒肯定得我们追上来才能突破，哪成想只是回家睡了一觉，第二天梁远就直接爆种了。
镜头上加水这玩意一旦捅破了后边差不多是一马平川，对于技术大佬三人组随便拿张纸就能算出来这东西的前景。
水的折射率是1.44，港基集电目前营运的晶圆生产线线宽是5微米，如果像梁远所言的直接在水里光刻都不用变动光刻机的镜头组数和更换新光源，直接就能把线宽变成3.5微米。
“大少这个想法简直天才～”
“十年之前，干式蚀刻和湿式蚀刻就有过路线之争，结果干式蚀刻把湿式蚀刻给淘汰了，没想到换了个思路湿式居然又复活了。”
“老聂，你这话可不准，形象点说干式蚀刻和湿式蚀刻是冲洗，和大少这个完全是两码事。”
光刻机蚀刻机都是晶圆生产线的核心设备，由于晶圆生产的技术原理起源于相机，因此可以近似的把光刻机看成拍摄，蚀刻机看成冲洗，加工完成的晶圆就是相片。
七十年代中期，主流蚀刻机对经过光刻机曝光之后晶圆都是采用液体化学溶剂冲洗光刻胶，因此也叫湿式蚀刻，七十年代末八十年代初，东洋尼康采用气体冲洗的干式蚀刻机研制成熟，只用了几年的时间就淘汰了操作复杂腐蚀污染严重的湿式蚀刻。
可惜，整整二十多年，整个东洋也没人想到把湿式工艺挪移到上一个生产环节。
一般来说，浸入式光刻机有三种技术路线：
第一种
第274章 分子级别超纯水(5/10)