何畸变，但这些都是工程上的问题，我们做制程的不要去过多的考虑，不要去抱怨机子不如外国人的问题，要是机子和外国人一样好了，还要我们干什么！
我们要知道，制程工艺里是允许几何畸变的，甚至要利用几何畸变，首先我们要摸清畸变的像场特征，从而在镜头对焦时寻找畸变误差最小的对位点，这既要求我们一次次的实验，寻找每个镜头的畸变像场特征，也要改进我们的硅片定位系统，改进激光干涉仪的精度，确保畸变可控。
我就只说这么一个思 路吧，再多的我就不说了，都是技术机密。
至于光刻胶残留造成的显影缺陷，那就更容易解决了，我再说一遍我们是搞制程的，不是搞化学的，光刻胶今后再怎么进化，用聚乙烯醇肉桂酸脂也好，环氧橡胶双叠氮也好，酚醛树脂重氮萘脂也好，那都是化工企业的问题，他们厂家怎么改进配方，那都不是我们要关心的问题。
为了彻底脱胶，我的思 路是上双层胶，降低胶膜对光源的反射，也就是目前国际上刚提出来的用抗反射剂来解决胶体残留影响曝光的思 路，其中一层胶体在曝光下分解酸性气体，可以彻底清除残胶，解决残胶影响曝光的问题，从而解决显影缺陷。
好吧，我就说这么多看，至于具体的双胶工艺如何做，那都是技术机密，我不能说。
总之突破这两个工艺之后，制程技术直上50纳米不成问题！今后我们重光的制程技术攻关就在这两点上！！！”
要知道，胡一亭在跳槽华创担纲天思 930芯片研发总设计师之前，他在浦海微电子装备集团就是专门负责集成电路生产设备的制造与生产
第321章 怒吼的学术权威(5/6)