理的方法，有选择地从硅片表面，除去不需要材料的过程。
完成之后，就能通过特定溶剂，洗去硅片表面残余的光刻胶了。
当然，这是最简易的光刻步骤，在实际生产制造中，比这复杂了上百倍。
从开始光刻，到最后洗去残余的光刻胶，几个步骤，就足足花了三个多小时。
当然，这里面也有一些员工刚刚接触新设备，操作不顺手的因素。
当时间来到下午四点半的时候。
车间内，一片惊喜和欢腾的景象。
“出来了，居然真的做出来了！”
“60nm的电路图，居然真的被我们转移到了硅片上。”
“不可思 议啊！全华夏能做60nm芯片的企业，不超过三家，而且全是在18年下半年才刚刚突破的技术，还是在实验室里！做到量产的话，得到今年年底，甚至是明年年初去了。”
“是啊，而我们现在，却拥有了一台可以量产60nm芯片的光刻机，如果操作熟练了，速度提上去，再进行交替光刻，一天至少可以造上数百片12寸的圆晶啊！”
“这是一个突破，了不起的突破，如果我们把这里发生的事情，宣布出去，足以震惊整个华夏，乃至是中央都要被惊动！”
华夏在半导体行业，被压了太多年了。
从上个世纪以来，就一直跟在西方国家的屁股后面跑，说是向人家乞讨技术也不为过。
虽然60nm芯片的量产，和45nm芯片的量产，还有一定的差距。
但是，在工艺水平上，也能证明华夏没比inter等落后
第376章 极紫外光刻机(4/5)