在asml面前被打的毫无还手之力，高端光刻机市场基本被asml占据。”
“如果我们用数据来说话，asml的 euv nxe 3350b 单价超过1亿美元，arf immersion售价大约在7000万美元左右，如此昂贵的价格，我们有钱还买不到。”
“所以我就不信邪，自己亲自设计了一台！”
“可能很多人都不知道光刻机工作原理！”
“不过没关系！”刘林说完，又接着道：“我给大家涨涨知识！”
“光刻机，主要分成：测量台、曝光台：就是是承载硅片，我们俗话说的圆晶的工作台。”
“激光器：也就是光源，光刻机核心设备之一，我们华国就造不出来。”
“光束矫正器，能量控制器，光束形状设置，遮光器......”
“在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。”
“一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。”
“越复杂的芯片，线路图的层数越多，也需要更精密的曝光控制过程。”
“可能大家不是专业，不知道，光刻机的波长越短，可曝光的特征尺寸就越小，波长越短，就表示光刻的刀锋越锋利，刻蚀对于精度控制要求越高。”
第350章 光刻机，万亿，你想干嘛？（求订阅）(2/9)