“还有就是离子束比激动束，有着非常大的能量，能量越大，曝光时间就越短。”
“而我设计的光刻机，不管是在支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等，理论上都比asml的 euv nxe 3350b强！”
“他的可见g线：136nm，i线：65nm，深紫外光（duv），krf 准分子离子束：48 nm， arf 准分子离子束：23 nm！”
“它可以加工2nm的精度！”
2nm的精度？
不会是乱报的吧？
怎么可能有这么高的精度？
真的假的？
刘林前面说的技术，可能自己不是专业听不明白，但是最后果的可以2nm的精度还是明白的！
要知道现在就世界上最牛的光刻机最高精度，是h兰国的，好像是5nm？
现在你跟我说你设计的光刻机加工精度达到2nm？确认没搞错？
忽悠人也不是这么忽悠的吧！
一个个虽然心里不怎么相信，但也学乖了，刚才差点被刘林玩坏掉！
这次不长我个心眼是不行了！
要知道台眼地操蛋的家伙，有时候真的好想上去打他一顿，简直是坑死人不偿命。
要是再长多个心眼，迟早给玩死。
所以还是乖乖地当一个三好学生，等刘林继续...
你继续表现，现在你是老大，你说了算，你想怎么表演就怎么表演。
还不行嘛。
五老板在中午的
第350章 光刻机，万亿，你想干嘛？（求订阅）(3/9)